光刻機(jī)是一種將目標(biāo)結(jié)構(gòu)圖樣印刷到硅片等基底上的機(jī)器，其機(jī)理類(lèi)似照片沖印過(guò)程，是半導(dǎo)體制造中最為重要的設(shè)備之一。光刻機(jī)的工作流程主要包括準(zhǔn)備、涂覆、曝光、顯影、腐蝕、清洗和檢測(cè)等步驟。光刻機(jī)技術(shù)是當(dāng)前半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)之一，其技術(shù)水平的提升直接決定了芯片制造工藝的進(jìn)步和發(fā)展。目前，全球前道光刻機(jī)市場(chǎng)被ASML、尼康、佳能等公司壟斷。

隨著國(guó)家對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重視和投入加大，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)開(kāi)始加速自主研發(fā)和創(chuàng)新。上海微電子是國(guó)內(nèi)唯一一家生產(chǎn)高端前道光刻機(jī)整機(jī)的公司，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了90nm光刻機(jī)的量產(chǎn)，并在不斷努力突破先進(jìn)制程，加速?lài)?guó)產(chǎn)化進(jìn)程。此外，國(guó)內(nèi)還有多家企業(yè)在光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈的相關(guān)零部件領(lǐng)域取得了突破，如光源系統(tǒng)、照明系統(tǒng)和投影物鏡等環(huán)節(jié)。