光刻膠行業(yè)呈現(xiàn)政策驅(qū)動、技術(shù)分層突破、產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同深化三大特征。ArF/KrF等高端光刻膠國產(chǎn)化率突破30%，配套材料（顯影液、電子特氣）實(shí)現(xiàn)全鏈條自主可控。設(shè)備端高精度定位、光學(xué)元件技術(shù)填補(bǔ)空白，封裝與先進(jìn)制程需求催生PSPI、納米分散體等創(chuàng)新材料。未來競爭將聚焦EUV膠研發(fā)、車規(guī)級認(rèn)證壁壘及設(shè)備-材料一體化生態(tài)構(gòu)建，技術(shù)迭代速度與客戶黏性成為企業(yè)護(hù)城河。